説明
ビスマス蒸発材料は、薄膜蒸着プロセスで使用される重要な成分であり、その特徴的な特性で知られています。高純度で制御された蒸発速度が特徴で、基板への正確な成膜を保証し、均一で欠陥のない膜形成を容易にします。ビスマス蒸着材料は優れた熱安定性を示し、蒸着中の高温に耐えることができます。これらの材料は、光学コーティング、半導体デバイス、研究所などで幅広く使用され、薄膜技術の進歩に貢献しています。ビスマス蒸着材料は、その汎用性と信頼性により、薄膜製造を必要とする様々な産業で重要な役割を果たし、安定した性能を提供し、技術に貢献しています。
仕様
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材質
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ビスマス
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外観
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光沢のある赤みがかった白色、メタリック
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融点 (°C)
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271
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熱伝導率
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8 W/m.K
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熱膨張係数
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13.4 x 10-6/K
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理論密度 (g/cc)
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9.8
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用途
1.光学コーティング：薄膜は、鏡、レンズ、光学フィルターなどの光学部品の調製に使用され、光の透過、反射、吸収特性を調整する。
2.半導体デバイス：半導体デバイスの材料として使用され、光電子デバイス、磁性材料薄膜トランジスタなどの調製に使用され、優れた性能と安定性を持つ。
3.磁性材料：磁気記録媒体、磁気記録テープ、ハードディスクなど、情報記録やデータ伝送用の磁性材料の構成材料として使用される。
4.サーマルコーティング：航空宇宙、自動車、電子製品に広く使用されている金属の表面保護や性能向上のための金属コーティングや保護膜の調製に使用される。
5.材料研究：材料の薄膜成長、表面特性、相転移を研究するために、材料科学や表面科学研究の実験材料や参照標準として使用される。
包装：
当社の蒸発材料は、保管や輸送中の損傷を防ぎ、製品の品質を元の状態で維持するために慎重に取り扱われています。
よくある質問
Q1: ビスマス蒸発材料とは何ですか？
A1: ビスマス(Bi)蒸着材料は、物理蒸着(PVD)プロセスで使用されるペレット、顆粒、破片などの高純度ビスマスです。一般的に、光学、電子、装飾コーティングの薄膜作成に使用されます。
Q2: ビスマス蒸着材料の主な用途は何ですか？
A2: ビスマス蒸着材料は、以下の分野で広く使用されています：
エレクトロニクス（半導体薄膜、熱電材料）
光学コーティング（赤外光学、特殊ガラスコーティング）
装飾コーティング（美観のための薄い金属層）
医療・研究用途（生体適合性コーティング、実験的薄膜研究）
Q3: どの蒸着技術がビスマス蒸着材料に適合しますか？
A3: この材料は以下の用途に適しています：
熱蒸着
電子ビーム蒸着
