説明
ホウ素蒸着材料は 、薄膜蒸着プロセスにおいて不可欠であり、様々な用途において極めて重要な独自の特性を誇ります。高純度で制御された蒸発速度が特徴で、基板への正確な成膜を保証し、均一で欠陥のない膜形成を容易にします。ホウ素蒸着材料は優れた熱安定性を示し、蒸着中の高温に耐えることができます。半導体デバイス、光学コーティング、研究所などで広く利用され、薄膜技術の進歩に大きく貢献しています。ボロン蒸着材料は、その汎用性と信頼性により、薄膜製造を必要とする産業において重要な役割を果たし、安定した性能を提供し、技術革新を可能にします。
仕様
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材質
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ホウ素
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外観
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黒色、セミメタリック
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融点 (°C)
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2,079
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熱伝導率
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27W/m.K
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熱膨張係数
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6 x 10-6/K
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理論密度 (g/cc)
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2.34
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用途
1.半導体デバイス：半導体デバイス：ホウ化物膜、ドーピング層、電極などの作製に使用される材料で、電子デバイス、光電子デバイス、太陽電池などに使用される。
2.光学コーティング：光学ミラー、光学フィルター、レンズなど、光の透過、反射、吸収を調整する光学部品用の薄膜。
3.保護膜：航空宇宙、自動車、工具製造などにおいて、表面の硬度、耐摩耗性、耐食性を向上させるための保護膜の成分として使用される。
4.材料補強：強度、硬度、耐摩耗性を向上させるため、金属基複合材料、セラミック、ポリマー材料の補強剤として使用される。
5.材料研究：材料の薄膜成長、表面特性、相転移を研究するため、材料科学や表面科学研究の実験材料や参照標準として使用される。
包装
当社の蒸発材料は、保管や輸送中の損傷を防ぎ、製品の品質を元の状態で維持するために慎重に取り扱われています。
よくある質問
Q1: ホウ素蒸発材料とは何ですか？
A1: ホウ素(B)蒸着材料は、物理蒸着(PVD)プロセスで使用されるペレット、顆粒、小片などの形状の高純度ホウ素です。硬度、耐薬品性、熱安定性に優れた薄膜を形成するために使用されます。
Q2: ホウ素蒸着材の主な用途は何ですか？
A2: ホウ素蒸着材料は以下の用途に広く使用されています：
半導体（マイクロエレクトロニクスの薄膜形成）
光学コーティング（赤外光学、レーザー光学）
保護膜（耐摩耗層、防錆層）
原子力用途（中性子吸収コーティング）
先端研究（研究開発における特殊薄膜研究）
Q3: ホウ素蒸着材料を使用する主な利点は何ですか？
A3: 高い硬度 - 耐摩耗性コーティングを提供します。
優れた化学的安定性 - 酸化や腐食に強い。
高温耐性 - 過酷な環境に適しています。
中性子吸収特性 - 原子力技術に有用です。
