1200C マイクロ波プラズマアシスト CVD 回転炉 GSL-1200R-MWPE 説明
1200C マイクロ波プラズマアシスト CVD 回転炉 GSL-1200R-MWPEは、マイクロ波アシスト化学気相蒸着 (MPCVD) 回転炉で、2.45GHz マイクロ波発生器と 0-5 rpm で作動する 2 インチ回転処理チューブを装備しています。この組み合わせはフランジで真空密閉され、約4.5torrの真空下で800℃から1200℃までの安定したプラズマ発生を保証します。
粉末材料の迅速な脱炭酸とコアシェル構造の形成に特化して設計されたこの炉は、特に高度な電池研究用途に適しています。その回転機構は、均一な処理と反応効率の向上を容易にし、次世代電池材料の開発に不可欠なツールとなっています。
1200℃ マイクロ波プラズマアシストCVD回転炉 GSL-1200R-MWPE 仕様
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マイクロ波
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- 周波数： 2.45 GHz ±25 MHz
- 出力1400W
- マイクロ波漏洩: ≤ 3 mW/cm² at 1 m.
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加熱モジュールと加工管
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- 内径80 mmのNi-Cr-Alワイヤー加熱コインを繊維状アルミナモジュール内に設置。
- 加熱コイルはマイクロ波チャンバー内に設置
- 2インチ石英管（外径50×内径44×長さ600mm）を加熱モジュールとマイクロ波チャンバー内に挿入し、プラズマを発生させる。
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電力
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2000W、208-240VAC、単相、50/60Hz
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フランジと真空
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- 石英管をシールするための真空フランジが1組付属しています。
- KF25真空ポート、ニードルバルブ付き1/4ガスインレットとアウトレットがフランジに内蔵されています。
- 真空制御用デジタル真空計1台付属
- 最大真空度ドライポンプで10-2torr、ターボポンプで10-5torr。
- ポンプは付属しません。
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インラインスイベル＆ ロータリースピード
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- 2つのインラインスイベルガスフィッティングが付属し、フランジに接続されています。
- 回転速度：チューブの回転はDCモーターで駆動され、回転速度は1～5rpmの範囲で可変です。
- インラインスイベルガス継手をガスタンクに接続するには、1/4 "ガスチューブが必要です。
- 左の写真をクリックすると詳細スペックが表示されます。
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使用温度
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- 最高使用温度最高使用温度：1200℃（30分未満）、連続使用温度：≤1100℃。
- 最小。温度: 800
- 加熱速度1 ~20℃/分
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温度コントローラー
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- 加熱速度、ドエル温度と時間、冷却速度を30セグメントでプログラム可能
- SCR温度制御
- 過熱および熱カップル壊れた保護
- 制御精度 +/-1.0
- フランジを貫通するK型サーマルカップル
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正味重量
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30kg
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寸法
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マイクロ波: 560(L) x 410(W) x 340(H) mm
チューブとフランジを含む総奥行き780 mm
コントローラー: 600(L) x 520(W) x 265(H) mm
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保証
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- 1年間限定保証、生涯サポート付き
- るつぼ、発熱体、断熱材などの消耗品は保証対象外。
- 注意：腐食性ガスおよび酸性ガスの使用に起因する損害は、SAM 1年限定保証の対象外となります。
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保証書
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1200℃ マイクロ波プラズマアシスト CVD 回転炉 GSL-1200R-MWPE 用途
- 材料合成：グラフェン、カーボンナノチューブ、その他のナノ材料など、エレクトロニクス、光学、材料科学研究で重要な先端材料の合成に使用できます。
- 表面改質：炉は材料の表面特性を変化させ、硬度、耐薬品性、生体適合性などの特性を向上させることができる。これは特に、生物医学や航空宇宙分野での利用価値が高い。
- ダイヤモンド膜の製造：マイクロ波プラズマは、ダイヤモンドライクカーボンコーティングの成膜に効果的です。ダイヤモンドライクカーボンコーティングは、その硬度と不活性な特性により、工具、耐摩耗性コーティング、一部の生物医学インプラントに使用されています。
1200C マイクロ波プラズマアシスト CVD 回転炉 GSL-1200R-MWPE パッケージング
当社の1200C マイクロ波プラズマ アシスト CVD 回転炉 GSL-1200R-MWPE は、製品の品質を元の状態で維持するため、保管中および輸送中に慎重に取り扱われます。
