ナノハフニウム酸化物粉末の説明
ナノハフニウム酸化物粉末 は、ハフニウム金属を生成するいくつかのプロセスの中間体です。ハフニアは、光学コーティング、DRAMキャパシタや先端金属酸化物半導体デバイスの高κ誘電体として使用されています。ハフニアは融点が非常に高いため、2500℃まで使用可能な熱電対などの絶縁耐火物としても使用されています。二酸化ハフニウム、シリカなどの多層膜は、建物のパッシブ冷房用に開発されている。
ナノ酸化ハフニウム粉末の仕様
純度 (HfO2 + ZrO2)
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99.9%
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APS
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50nm
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比表面積(m2/g)
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20
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カラー
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白色
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結晶構造
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球状
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密度
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9.68 g/cm3、固体
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融点
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2,758℃
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沸点
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5,400℃
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ナノハフニウム酸化物粉末の特徴
- ナノスケールの精密さナノスケールで設計された酸化ハフニウム粉末は、表面積と反応性が向上しており、高性能のアプリケーションを可能にします。
- 高誘電率: 酸化ハフニウムはその高い誘電率で知られており、マイクロエレクトロニクスや半導体産業、特に高容量コンデンサの製造に有用です。
- 熱安定性顕著な熱安定性を示すため、高温環境での用途や絶縁材料として理想的です。
- 光学特性ナノハフニウムオキサイドは、特定の波長で透明性を示すなど、ユニークな光学特性を示し、光学コーティングやフォトニック用途に適しています。
- カスタマイズ可能な特性:粒子サイズ、表面改質、およびその他の特性は、お客様のアプリケーションの特定の要件を満たすように調整することができます。
ナノハフニウム酸化物粉末の用途
ナノハフニウム酸化物粉末は 、光学コーティングに使用されます。また、熱電対などのデバイスの絶縁に耐火物として使用されます。
- マイクロエレクトロニクス半導体産業において、高容量コンデンサ、ゲート絶縁膜、その他の電子部品に使用される。
- 遮熱コーティング:その優れた熱安定性により、ガスタービンや航空宇宙部品の断熱材として使用されている。
- 光学とフォトニクス:そのユニークな光学特性により、光学コーティング、レンズ、フォトニックデバイスに利用されている。
- セラミックスアドバンスト・セラミックスの特性、特に誘電性能と耐熱性を向上させる。
- エネルギー貯蔵スーパーキャパシタや高エネルギー密度電池など、大容量エネルギー貯蔵デバイスの開発に貢献。
ナノ酸化ハフニウム粉末のパッケージング
当社のナノハフニウム酸化物粉末は、製品の品質をそのまま維持するために、保管中および輸送中に慎重に取り扱われます。
よくある質問
Q1.ナノハフニウム酸化物粉末とは何ですか?
ナノハフニウム酸化物(HfO₂)粉末は高温で化学的に安定なナノ材料で、優れた誘電特性、高屈折率、耐放射線性で知られています。エレクトロニクス、光学コーティング、触媒、原子力用途に広く使用されています。
Q2.ナノハフニウム酸化物粉末の主な特性は何ですか?
高誘電率:半導体やコンデンサーに使用されています。
優れた熱的・化学的安定性:過酷な環境に耐える。
高い屈折率光学コーティングやレンズに最適です。
耐放射線性原子力用途に適しています。
無毒性と生体適合性:メディカルイメージングやバイオセンサーへの応用が検討されている。
Q3.ナノハフニウム酸化物粉末の主な用途は何ですか?
半導体とマイクロエレクトロニクス:トランジスタのゲート絶縁膜として使用。
光学コーティング:レンズ、ミラー、反射防止膜の強化。
触媒作用化学反応や燃料電池の効率を向上させる。
原子力産業原子炉の中性子吸収材として働く。
生物医学イメージング:X線やCTスキャンの造影剤として研究されている。
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