フッ化ジスプロシウム蒸発材料の説明
フッ化ジスプロシウム蒸着材料の卓越した品質を発見し、様々な産業におけるその多彩な用途を探求してください。このページでは、フッ化ジスプロシウムを薄膜蒸着プロセスに組み込む際の主な特徴と用途についてご紹介します。
フッ化ジスプロシウム蒸着材料の仕様
仕様 |
詳細 |
材料タイプ |
フッ化ジスプロシウム |
記号 |
DyF3 |
外観/色 |
白色結晶性粉末 |
融点 |
1,740 °C (3,164 °F; 2,013 K) |
密度 |
6.9 g/cm3 |
純度 |
99.9% ~ 99.95% |
形状 |
粉末/ 顆粒/ オーダーメイド |
フッ化ジスプロシウム蒸発材料の主な特徴
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化学組成フッ化ジスプロシウム(DyF3)は、ジスプロシウム(Dy)とフッ素(F)からなり、特徴的な白色の結晶性粉末を形成します。
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高い融点:DyF3の融点は1,740 °C (3,164 °F; 2,013 K)と高く、高温を伴う熱蒸発プロセスに適しています。
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密度:6.9g/cm3の密度を持つフッ化ジスプロシウムは、大きな質量を持ち、薄膜蒸着時の安定性に寄与しています。
フッ化ジスプロシウム蒸着材料の用途
1.光学コーティング:フッ化ジスプロシウム薄膜は、レンズ、ミラー、様々な光学部品の光学コーティングに応用されています。その屈折特性は、光の透過と反射の管理に貢献します。
2.磁石および磁気デバイス:フッ化ジスプロシウムは、その強力な磁気特性により、強力な磁石や磁気デバイスの製造に使用されています。
3.固体レーザー:固体レーザーにおけるフッ化ジスプロシウムの役割は、赤外領域での効率的なレーザー発光を可能にし、科学的および産業的用途に有用です。
フッ化ジスプロシウム蒸着材料の可能性を解き放ち、その卓越した特性を活用することで、産業界における革新的なアプリケーションを実現しましょう。
フッ化ジスプロシウム蒸発材料の包装
当社のフッ化ジスプロシウム(DyF3)蒸発材料は、効率的な識別と品質管理を確実にするために、外部に明確なタグとラベルが付けられています。また、保管中や輸送中の破損に細心の注意を払っています。