説明
薄膜形成に重要なコバルト蒸着材料は、様々な用途に適したユニークな特性を持っています。高純度と制御された蒸発速度で有名なコバルト蒸発材料は、基板への正確な成膜を保証し、均一で欠陥のない膜形成を可能にします。卓越した熱安定性により、蒸着中の高温に耐えることができます。コバルト蒸着材料は 、半導体デバイス、磁気記憶媒体、装飾コーティングに幅広く使用され、薄膜技術の進歩に大きく貢献しています。多用途で信頼性が高く、薄膜製造を必要とする産業で重要な役割を果たし、安定した性能を提供し、技術革新を可能にします。
仕様
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材質
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コバルト
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外観
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光沢、メタリック、灰色がかった色調
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融点 (°C)
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1,495
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熱伝導率
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100W/m.K
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熱膨張係数
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13.0 x 10-6/K
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理論密度 (g/cc)
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8.9
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用途
1.半導体デバイス：半導体デバイス：磁性材料やドーパント層の調製に使用され、磁気記録媒体、磁気トンネル構造、磁気センサーなどに応用される。
2.磁気記録媒体：ハードディスク、磁気テープ、磁気レコーダーなどの磁気記録媒体の構成要素として使用され、データの保存や伝送に使用される。
3.装飾用コーティング：宝飾品、時計、自動車部品など、表面に金属光沢や色彩を与える装飾用コーティングとして使用される材料。
4.防錆コーティング: 防錆コーティングの添加剤として、コーティングの耐食性を向上させる。
5.材料研究：磁性材料の特性および応用を研究し、材料科学の発展を促進するための実験材料および標準物質として使用される。
包装
当社の蒸発材料は、保管や輸送中の損傷を防ぎ、製品の品質を元の状態で維持するために慎重に取り扱われています。
よくあるご質問
Q1: コバルト蒸着材とは何ですか？
A1: コバルト(Co)蒸着材料は、物理蒸着(PVD)プロセスで薄膜を形成するために使用される、ペレット、顆粒、破片などの形態の高純度コバルトです。これらの薄膜は、エレクトロニクス、磁気ストレージ、保護コーティングに一般的に使用されています。
Q2: コバルト蒸着材の主な用途は何ですか？
A2: コバルト蒸着材料は以下の用途に広く使用されています：
磁性薄膜(ハードディスク、MRAM、スピントロニクスデバイスに使用)
半導体用途（バリア層、電気接点）
光学コーティング（特殊な反射板やフィルター）
耐摩耗性コーティング（表面耐久性の向上）
航空宇宙産業および自動車産業（保護膜、機能膜）
Q3: どの蒸着技術がコバルト蒸着材料に適合しますか？
A3: コバルトは以下の方法で蒸着できます：
電子ビーム蒸着 - 精密で制御された蒸着に適しています。
熱蒸着 - 低温が要求される特定の用途に使用されます。
