フッ化カルシウム結晶基板の説明
フッ化カルシウム結晶基板は、元素カルシウムとフッ素の無機化合物であるフッ化カルシウムから作られています。それは白い不溶解性の固体です。それは不純物のために頻繁に深く着色される鉱物螢石(また螢石と呼ばれる)として起こります。
フッ化カルシウム結晶基板仕様
格子定数
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5.462 A
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密度
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3.18g/cm3
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融点
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1360 °C
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分子量
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78.075 g/mol
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弾性係数
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C11 = 164 C12 = 53 C44 = 33.7 (7)
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熱伝導率
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9.71 W m-1 K-1 (4)
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熱膨張率
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18.85 x 10-6 /K
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ヤング率
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75.8 GPa
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体積弾性率 (K)
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82.71 GPa
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比熱
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854 J-kg/m-K
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研磨
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片面研磨または両面研磨
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フッ化カルシウム結晶基板の用途
フッ化カルシウム結晶基板は、以下の用途に使用されています:
- レーザー
- 赤外線
- 紫外線光学
- 高エネルギー検出
フッ化カルシウム結晶基板パッケージ
フッ化カルシウム(CaF2)結晶基板は、輸送中の保護を確実にするために慎重に梱包されています。各基板は、静電気防止と耐湿性のある材料で個別に密封され、取り扱い中の損傷を防ぐためにクッション材が追加されています。
よくある質問
Q1 CaF2基板は赤外線(IR)アプリケーションに使用できますか?
はい、CaF2基板は赤外線(IR)用途に非常に適しています。赤外線光学部品、特に高性能レンズや窓によく使用されています。CaF2は赤外域での吸収が低く、様々な赤外システムに理想的な材料です。
Q2 フッ化カルシウム(CaF2)基板は、どのように洗浄・メンテナンスすればよいですか?
CaF2基板は壊れやすいため、取り扱いには注意が必要です。クリーニングは、柔らかく糸くずの出ない布と中性洗剤溶液を使って行うことができます。結晶表面を傷つける可能性のある刺激の強い化学薬品や研磨剤は避けてください。汚れがひどい場合は、イソプロピルアルコールと 超音波洗浄(該当する場合)を使用してください。基板の品質を維持するためには、ほこりのない環境で適切に保管することが不可欠です。
Q3.CaF2基板を使用する上での課題はありますか?
CaF2は光学用途には優れた材料ですが、脆く、高湿度に敏感であるため、シナリオによっては困難な場合があります。適切な取り扱いと保管は、表面欠陥を避け、光学的完全性を維持するために非常に重要です。さらに、フッ化カルシウム結晶は他の光学材料よりも傷つきやすいため、慎重な取り扱いが必要です。