カルシウム（Ca）スパッタリングターゲット 説明
カルシウム（Ca）スパッタリングターゲットは、均一な薄膜を作成するためのスパッタリング蒸着システムで主に使用される高級材料です。 99％以上の高純度で製造されたこのターゲットは、標準的なディスク形式で入手可能であり、特定のアプリケーション要件を満たすためにカスタムメイドすることもできます。 その優れた化学的および物理的特性は、様々なハイテクアプリケーションで信頼性の高い性能を保証し、精度と一貫性を必要とする産業にとって不可欠なコンポーネントとなっています。
カルシウム（Ca）スパッタリングターゲット用途
- 薄膜蒸着：半導体およびセンサー製造における均一なカルシウム膜の成膜に最適です。
- 光学コーティング：光学機器の反射膜や反射防止膜の製造に使用される。
- エレクトロニクス制御された膜厚と組成が重要な部品の製造に利用される。
- 研究開発：先端材料研究を行う研究所やパイロットプラントには欠かせない。
カルシウム（Ca）スパッタリングターゲットパッキング
当社のカルシウム(Ca)スパッタリングターゲットは、保管中および出荷中に高純度と構造的完全性を維持する方法を用いて慎重に梱包されます。ターゲットは真空密封されており、お客様のアプリケーションのニーズに合わせて、標準またはカスタマイズされた梱包サイズで供給することができます。
よくある質問
Q: スパッタリングターゲットとは何ですか？
A: スパッタリングターゲットは、物理蒸着プロセスで使用される材料ソースで、高エネルギー粒子がターゲットから原子を放出し、基板上に薄膜として蒸着させます。
Q: カルシウム（Ca）スパッタリングターゲットはどのような産業で使用されていますか？
A: 半導体製造、光学、電子工学、先端研究所などの業界では、精密な薄膜蒸着にカルシウム・スパッタリング・ターゲットを利用しています。
Q: カルシウムスパッタリングターゲットの純度はどのように保たれていますか？
A: ターゲットは高純度原料(99%以上)を使用し、管理された条件下で製造され、汚染や酸化を防ぐため、梱包時に真空密閉されます。
Q: この製品に特注の形状やサイズはありますか？
A: はい、標準的なディスク形状に加えて、カルシウム（Ca）スパッタリングターゲットは、特定のプロジェクトや顧客の要件に応じて特注することができます。
Q: カルシウム（Ca）スパッタリングターゲットの取り扱いにはどのような注意が必要ですか？
A: 汚染を避けるため、ターゲットは清潔で管理された環境で取り扱ってください。 カルシウムは特定の条件下で反応する可能性があるため、保護具の使用を含む安全ガイドラインに従うことが重要です。
