セリウム（Ce）スパッタリングターゲット商品概要
セリウム（Ce）スパッタリングターゲットは、薄膜蒸着および物理蒸着プロセスにおいて最適な性能を発揮するように設計されています。高純度（99％以上）で製造されたこのターゲットは、RFおよびDCの両方の条件下で、安定したスパッタリング収率と高品質の膜形成を保証します。その設計は、標準ディスクと特注形状の両方に対応し、半導体製造、光学コーティング、および先端研究用途のための多用途な選択肢となっています。また、セリウムの堅牢な特性は、厳しい処理条件下での耐久性を保証し、重要な用途における信頼性の高い性能を保証します。
セリウム（Ce）スパッタリングターゲット用途
- 半導体製造：集積回路や電子デバイスの均一な薄膜成膜に最適。
- 光学コーティング高度な光学用途の精密反射および反射防止コーティングに使用。
- マイクロエレクトロニクスセンサー、ディスプレイ、その他のデバイスにおける高精度コンポーネントの製造をサポート。
- 研究開発：先端材料科学やナノテクノロジーを探求する研究所で広く応用されている。
- 工業表面工学：需要の高い工業用加工におけるさまざまな表面改質プロセスに対応。
セリウム（Ce）スパッタリングターゲットパッキング
当社のセリウム（Ce）スパッタリングターゲットは、その原始的な状態と性能を維持するために慎重に梱包されています。各ターゲットは、標準ディスクまたはカスタムメイドのデザインにかかわらず、安全な保管と汚染のない輸送を保証するために保護パッケージに真空封入されています。
よくある質問
Q: セリウム（Ce）スパッタリングターゲットの主な用途は何ですか？
A: 主に半導体製造、光学コーティング、マイクロエレクトロニクス、薄膜蒸着用の先端材料研究に使用されます。
Q: RFスパッタリングモードとDCスパッタリングモードは、ターゲットの性能にどのような利点をもたらしますか？
A: デュアルモードスパッタリング機能により、柔軟な操作条件が可能になり、様々な産業用途において最適な成膜と均一なスパッタリング効率が得られます。
Q: スパッタリングターゲットの形状はカスタマイズできますか？
A: はい、当社のセリウム（Ce）スパッタリングターゲットは標準ディスクとして入手可能ですが、特定の用途要件に合わせて特注することもできます。
Q: スパッタリングターゲットの純度はどの程度保証されていますか？
A: 各ターゲットは99%以上の純度で製造されており、安定した性能と信頼性の高い成膜を保証します。
Q: 輸送中の汚染を防ぐため、製品はどのように梱包されていますか？
A: ターゲットは保護パッケージに真空封入されており、保管中および出荷中もコンタミネーションがなく、最適な状態を保ちます。
