コバルト（Co）スパッタリングターゲット商品概要
コバルト（Co）スパッタリングターゲットは、スパッタリング成膜プロセス用に設計されており、薄膜やコーティングの製造において高純度と信頼性を提供します。高度な技術を用いて製造されたこのターゲットは、標準的なディスクから特注の構成まで、カスタマイズ可能な形状を提供し、特定の産業用途への柔軟性を確保します。その堅牢な物理的特性により、半導体製造、光学コーティング、表面エンジニアリングに理想的な選択肢となり、厳しい条件下で卓越した性能を発揮します。
コバルト（Co）スパッタリングターゲット用途
- マイクロエレクトロニクス半導体および集積回路製造における薄膜成膜に不可欠。
- 光学コーティング精密光学機器用の反射層や反射防止層の形成に利用される。
- 表面工学：様々な産業用工具の耐摩耗性コーティングや装飾コーティングに応用されている。
- 研究開発：学術および産業研究所での実験セットアップや革新的な材料調査に最適。
コバルト（Co）スパッタリングターゲットパッキング
コバルト(Co)スパッタリングターゲットは、製品の完全性と最適な性能を保証するために、管理されたクリーンな条件下で包装されています。標準的なディスクには真空密封包装で、特注のターゲット形状にはカスタム包装ソリューションが提供されます。重量オプションと出荷仕様の詳細については、当社のパッケージング部門にお問い合わせください。
よくある質問
Q: コバルト（Co）スパッタリングターゲットの主な用途は何ですか？
A: 主に半導体製造、光学コーティング、表面技術用途のスパッタリング蒸着に使用されます。
Q: ターゲットは特定のサイズや形状にカスタマイズできますか？
A: はい、標準的なディスク形状のほか、独自のアプリケーション要件に対応したカスタムメイドも可能です。
Q: このターゲットにはどのようなスパッタリング方法が推奨されますか？
A: このターゲットはDCスパッタリングプロセスに最適化されており、安定した効率的な薄膜成膜が可能です。
Q: ターゲットの高純度はどのように維持されていますか？
A: ターゲットは99%以上の純度で製造され、一貫した性能を保証するために厳格な品質管理手順を経ています。
Q: スパッタリングターゲットの推奨保管条件を教えてください。
A: 汚染を防ぎ、長期にわたって品質を維持するために、清潔で乾燥した環境、理想的には真空密封されたパッケージで保管する必要があります。
