ハフニウム蒸着材料の説明
ハフニウム蒸着材料は、薄膜蒸着プロセスに不可欠です。高純度と優れた熱安定性で知られ、基板への正確な成膜を保証し、均一で欠陥のない薄膜形成を容易にします。ハフニウム蒸着材料は、高温に対する優れた耐性を持ち、薄膜蒸着の厳しい条件下でも劣化することなく耐えることができます。そのユニークな特性により、半導体デバイス、光学コーティング、研究用途に広く使用されています。多用途で信頼性の高いハフニウム蒸着材料は、薄膜製造を必要とする産業で重要な役割を果たし、安定した性能を提供し、薄膜技術の進歩を可能にします。

ハフニウム蒸着材料の仕様
材質
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ハフニウム
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外観
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灰色鋼、メタリック
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融点 (°C)
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2,227
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熱伝導率
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23 W/m.K
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熱膨張係数
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5.9 x 10-6/K
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理論密度 (g/cc)
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13.31
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ハフニウム蒸着材の用途
1.半導体デバイス:金属酸化物電界効果トランジスタ(MOSFET)およびその他の半導体デバイスの誘電体層およびチャネル層。
2.光学コーティング:レンズ、ミラー、光学フィルターなど、光の透過、反射、吸収を調整する光学フィルムの調製に使用される。
3.原子力技術:原子炉や核実験における制御材料として、中性子吸収体や燃料棒材料などに使用される。
4.航空宇宙:航空宇宙分野:高温合金、エンジン部品、燃焼室材料の製造。
5.材料研究:材料の構造、特性、応用を研究し、材料科学の発展を促進するための実験材料および参照標準として使用される。
ハフニウム蒸着材料の梱包
当社のハフニウム蒸発材料は、保管・輸送中の破損を防ぎ、製品の品質をそのまま維持するため、慎重に取り扱われています。