フッ化ハフニウム蒸発材料の説明
フッ化ハフニウム蒸発材料の卓越した品質を探求し、さまざまな産業におけるその多彩な用途を発見してください。このページでは、フッ化ハフニウムを薄膜蒸着プロセスに組み込む主な特性、用途、および利点に関する洞察を提供します。
フッ化ハフニウム蒸着材料の仕様
仕様 |
詳細 |
材料タイプ |
四フッ化ハフニウム |
記号 |
HfF4 |
外観/色 |
白色結晶性粉末 |
融点 |
970 °C (1,780 °F; 1,240 K) (昇華) |
密度 |
7.1 g/cm3 |
純度 |
99.9% |
形状 |
粉末/ 顆粒/ オーダーメイド |
フッ化ハフニウム蒸発材料の主な特徴
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化学組成フッ化ハフニウム(HfF4)は、ハフニウム(Hf)とフッ素(F)から構成されており、特徴的な白色の結晶性粉末を形成しています。
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昇華融点:HfF4は970 °C(1,780°F;1,240K)で昇華するため、熱蒸発中に液体状態を経由することなく、直接固体から蒸気相に移行することができる。
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密度:7.1g/cm3の密度を持つフッ化ハフニウムは、かなりの質量を持ち、薄膜蒸着プロセスにおける安定性に寄与している。
フッ化ハフニウム蒸着材料の用途
1.光学コーティング:フッ化ハフニウム薄膜は、レンズ、ミラー、および様々な光学部品の光学コーティングに応用されています。その屈折特性により、光の透過と反射を管理するのに有用です。
2.半導体:フッ化ハフニウムは、半導体製造プロセス、特にHKMG(High-k Metal Gate)トランジスタの薄膜ゲート絶縁膜に利用されている。
3.保護コーティング:フッ化ハフニウムは融点が高く、化学的に安定しているため、過酷な環境や高温用途の保護膜として使用されています。
フッ化ハフニウム蒸発材料のポテンシャルを活用し、その卓越した特性を活かして、各業界で先駆的な用途を開拓してください。
フッ化ハフニウム蒸発材料の包装
当社のフッ化ハフニウム(HfF4)蒸発材料は、効率的な識別と品質管理を確実にするために、明確にタグ付けされ、外部にラベル付けされています。また、保管中や輸送中の破損を防ぐため、細心の注意を払っています。