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Stanford Advanced Materials
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  • ST0515 酸化イットリウムハフニウムスパッタリングターゲット、HfO2/Y2O3

    • ST0515 酸化イットリウムハフニウムスパッタリングターゲット、HfO2/Y2O3

    カタログ番号 ST0515
    化学式 HfO2/Y2O3
    純度 99.9%, 99.99%, 99.999%
    形状 ディスク, プレート, コラムターゲット, ステップターゲット, オーダーメイド

    SAMの酸化イットリウム入り酸化ハフニウムスパッタターゲットは、様々な形状、純度、サイズ、価格で提供されています。当社は、半導体、化学気相成長（CVD）、物理気相成長（PVD）ディスプレイおよび光学用途で使用される、可能な限り密度が高く、可能な限り平均粒径が小さい高純度物理気相成長（PVD）材料の製造を専門としています。

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    最終推奨

    ST0001 アルミニウム（Al）スパッタリングターゲット
    ST0002 アンチモン（Sb）スパッタリングターゲット
    ST0003 バリウム（Ba）スパッタリングターゲット
    ST0004 ビスマス（Bi）スパッタリングターゲット
    ST0005 ホウ素（B）スパッタリングターゲット
    ST0006 カドミウム（Cd）スパッタリングターゲット
    ST0007 カルシウム（Ca）スパッタリングターゲット
    ST0008 セリウム（Ce）スパッタリングターゲット
    ST0009 クロム（Cr）スパッタリングターゲット

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      純度

      99.9%

      • 99.9%
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