ST6554 ツリウム・プラナー・ターゲット

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カタログ番号	ST6554
CAS番号	7440-30-4
素材	Tm
密度	9.3208 g/cm3
純度	99.9%

Stanford Advanced Materials (SAM)は、高度な薄膜蒸着用に設計された高純度 ツリウム平板ターゲットを提供します。99.9%-99.99%の純度とカスタマイズ可能な形状により、これらのターゲットは均一なスパッタリング性能を保証します。SAMの厳格な品質管理、不活性ガスパッケージング、グローバルロジスティックスは、最先端の研究と産業革新に信頼性の高いソリューションを提供します。

その他の形状ツリウムスパッタリングターゲット

関連製品テルル化ツリウムスパッタリングターゲット、酸化ツリウムスパッタリングターゲット

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概要

仕様

ツリウムプラナーターゲットの説明

スタンフォード・アドバンスト・マテリアルズ(SAM)は、99.9%～99.99%(3N～4N)の純度のツリウム金属から製造されるツリウム・プラナー・ターゲットを 専門としており、精密薄膜アプリケーション用に調整されています。これらのターゲットは標準直径50mmから200mm、厚さ3-10mmで入手可能であり、ハイパワースパッタリングシステムでの熱安定性を高めるためにボンディング構成（例えば、CuまたはMoバッキングプレート）でカスタマイズすることができます。細粒構造（<50 µm）と高密度（理論値95%以上）で設計されており、パーティクルの排出を最小限に抑え、一貫した膜の均一性を確保します。各ターゲットは、保管・輸送中の酸化を防ぐため、乾燥剤とともにアルゴン充填包装で真空密封されています。ICP-MS不純物分析、XRD結晶学的検証、表面粗さ試験（<0.5 µm Ra）を含む厳格な品質保証により、ASTM F3091およびISO 9001規格への準拠が保証されています。SAMは、スパッタリングパラメータ（RFパワーの最適化、ガス圧範囲など）に関する技術ガイダンスを提供し、世界的な研究施設や産業施設への迅速な納品（標準注文の場合、3～4週間）を保証します。

ツリウム平板ターゲット仕様

純度	99.9%
理論密度	9.3208^g/cm3
融点	1545 ℃
沸点	1947 ℃
製品形状	長方形、またはご要望に応じてカスタマイズ
製品サイズ	カスタマイズ

*上記の製品情報は理論的なデータに基づいています。具体的なご要望や詳細については、お問い合わせください。

ツリウム平板ターゲットの用途

1.医療および放射線技術：ポータブルX線装置医療用画像処理における小型放射線源用のツリウム170同位体コーティング。

2.レーザーシステム：Tm：YAGレーザー（波長2.0 µm）、低侵襲手術およびLiDARアプリケーション用。

3.原子力工学：中性子放射化分析：原子炉監視システムにおける中性子検出のためのTmドープ膜。

4.光学材料：通信用Tm³⁺ドープファイバー増幅器、赤外レーザーコンポーネント。

5.研究・先端技術ツリウムドープ結晶を用いた量子メモリー研究、スピントロニクス材料開発。

ツリウム平板ターゲットの包装

当社の製品は、材料の寸法に基づいて様々なサイズのカスタマイズされたカートンに梱包されています。小さな製品はPP箱にしっかりと梱包され、大きな製品は特注の木箱に入れられます。包装のカスタマイズを厳守し、適切な緩衝材を使用して、輸送中に最適な保護を提供します。

梱包カートン、木箱、またはカスタマイズ。

製造工程

1.簡単な製造工程の流れ

2.試験方法

化学成分分析 - GDMSやXRFなどの技術を用いて検証し、純度要件への適合を確認する。
機械的特性試験 - 材料性能を評価するための引張強さ、降伏強さ、伸び試験を含む。
寸法検査 - 厚さ、幅、長さを測定し、指定された公差に準拠していることを確認します。
表面品質検査 - 目視および超音波検査により、傷、亀裂、介在物などの欠陥をチェックします。
硬度検査 - 材料の硬度を測定し、均一性と機械的信頼性を確認します。

ツリウム平板ターゲットに関するFAQ

Q1: 特注のターゲット形状やボンディングを依頼できますか？

A1: はい。特注の直径、厚さ、接合構成（Agバッキングプレートなど）に対応しています。

Q2: 保管中の酸化はどのように防ぐのですか？

A2: ターゲットはアルゴン充填容器に真空封入され、乾燥剤とともに出荷されます。乾燥した不活性ガス中での保管を推奨します。

Q3: テクニカルサポートはありますか？

A3: はい。SAMでは、スパッタリング・パラメーターの最適化ガイドと膜質問題のトラブルシューティングを提供しています。

競合製品との性能比較表

ツリウムロータリーターゲットとツリウムプレーナターゲットの比較

特徴	ツリウムロータリーターゲット	ツリウム平板ターゲット
材料利用率	最大80-90	約30-40
耐用年数	長く、交換頻度を低減	より短く、より頻繁な交換が必要
コーティングの均一性	均一性が高く、大面積コーティングに最適	厚みにばらつきがある場合がある
製造コスト	初期コストは高いが、長期的には経済的	イニシャルコストは低いが、交換頻度が高い
用途	大面積コーティング（TFT-LCD、太陽電池、光学コーティング）	小面積コーティング（半導体、精密電子機器）
スパッタリング安定性	安定性が高く、材料ロスが少ない	浸食ムラによる安定性低下の可能性あり
対応装置	回転式スパッタリング装置が必要	従来の平面スパッタリング装置と互換性あり

仕様

純度	99.9%
理論密度	9.3208^g/cm3
融点	1545 ℃
沸点	1947 ℃
製品形状	長方形、またはご要望に応じてカスタマイズ
製品サイズ	カスタマイズ